半导体商面临的最大问题往往都是产能，时间对于他们来说就是生命。

一台可拆卸的刻光机可以解决很多产能问题。

在金钱的刺激下，拜尔斯主动提议道：

“老板，我们目前要解决的便是订单问题，有了订单，生产线才能全力运作起来。

我们可以试着找巨头IBM聊聊，他们曾公开表示谁第一个生产出更精细的光刻设备就会找谁合作。”

这件事邱明祥也是知道的，解释道：

“IBM在89年率先宣布他们成功在8英寸晶圆上制造芯片，工艺制程将精细到365nm，他们的总裁呼吁光刻机厂商研发精度更高的光刻设备。

并且公开保证，谁第一个造出来，IBM将优先购买他们的光刻机！”

王磊眼睛一亮，他正在为光刻机卖给谁，买主不就这么来了吗。

“这一次展会，一定要邀请IBM的人来观摩观摩，要知道我们的光刻机精度可是提升到了70nm！”

远远超过了IBM所要求的365nm。

王磊很期待看到一群老外惊讶错愕的眼神。

几人都不由的相识一笑。

“老板，只要拿下IBM，我们的市场占有率可以提高到5%！”

见拜尔斯有点飘的样子，王磊还是忍不住敲打道：

“拜尔斯，虽然我们目前制造出了远超同行的光刻设备，但远远没有到可以大意的时候，我们要尽早将光源波长提高到157nm！”

光刻机技术的升级，可以简单的看作光源波长的升级。

通过用更高级的曝光光源，来支撑技术进步到下一代。

为了追求更高的分辨率，光源波长从最初的365nm，到248nm，再到如今pas 5500使用的193nm。

据王磊对光刻机发展进程的了解，想要从248nm进化到193nm并不是最难的一步。

用不了几年，尼康、佳能、以及美丽国的GCA都会相继走到这一步。

最困难的还是向157nm的技术升级。

所有的大厂商都被卡在这一步上。

谁先迈出这一步，便会奠定一超多强的格局，彻底成为光刻机行业的霸主。

拜尔斯也没有预料到王磊的野心会如此的大，刚完成了技术升级，又开始琢磨着下一代光刻机。

“你放心，不管研发中遇到多少困难，我都会全力支持你们的研发！”

说这话的时候，王磊却将思绪飘到了台积电。

那里有一位龙裔科学家，堪称半导体“鬼才”一般的存在。

正是他提出了一种较为大胆的理念——浸没式！

他创造性的提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193nm，但通过水的折射，使进入光阻的波长缩小到134nm。

以前的干式法中，曝光介质用的是空气。

它们的区别在于折射率，193 nm光源在空气中的折射率为1，在水中折射率为1.4。

这也就意味着相同光源条件下，浸没式光刻机的分辨率可以提高1.4倍。