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第634章 升级优化EDA工具,难如登天?(2 / 2)

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且他在说话的同时。

也把目前仍需攻克的问题,列成表单发到了在场每一个人的手中。

由此可见。

他这个专项组组长,真不是吃干饭的。

早在今天开动员大会之前,他便已经做好了充分的调研和总结。

而在场人在听了他所说,并拿到这些问题表单后,也是面色骤然凝重。

显然,他们都感受到了压力。

能不有压力么?

要知道芯片是尖端科技的最直接体现,技术含量非常高,从芯片设计、制造、封装等各个环节都具有很高的技术门槛。

曾有人问过,这发展“一星两弹”和“国产芯片”到底哪个难度更大?

前者是老一辈科学家为新东云的强盛和稳定做出的重大战略部署。

也是老一辈科学家向难而生,呕心沥血,隐姓埋名,为东云繁荣献上的大礼,他们值得我们永远敬重、学习和纪念。

而后者将在东云实现民族伟大复兴的进程中发挥巨大作用。

因此,这两个系统工程对东云发展的意义非凡,所以可以放在一起分析比较,找出发展国产芯片的难点和痛点,制定东云芯片产业补短板,强弱项的最佳路径的。

从发展条件看,“一星两弹”比“国产芯片”肯定要难得多,毋庸置疑。

毕竟其是在物资极度匮乏的条件下,“一星两弹”人克服千难万险取得任务圆满成功,是非常了不起的历史壮举。

但从涉及的科技领域的广度看,发展“国产芯片”的任务也非常艰巨。

造芯片之难,虽没有难于上青天,但却是让东云高科技发展面临前所未有的困难,这个集多种学科之大成的领域,确实不是一时半会儿,想突破就能突破的。

除此之外。

搞芯片的难度还在于芯片应用广泛,要满足众多用户的性能和体验要求。

例如手机,需要有大众愿意为其买单才会成功,否则就不算成功。

实际上……

要制造出一般的芯片很容易。

早在多年前,东云就能造。

可要想在质能上碾压国外顶尖的同类产品,那可真是难如登天。

虽然现在有了完美石墨烯这个原材料,但原材料虽好,可要建成高楼大厦,中间更多是要各种器械辅助,各种技术支撑。

而这些器械也好,技术也罢。

东云都远不如国外,甚至有很多方面都被卡了脖子,死死的难以动弹。

过去高端光刻机是生产优质芯片永远不可绕开的点,现在倒是可以绕开了。

有了完美石墨烯,有高端光刻机更好,但没有的话,使用一般的也行,再不济还可以用其它方法替代,都不需要光刻机。

但光刻机只是一个点。

除此之外,难点还有非常多,各个环节,各种技术,都需要再做突破。

其中第一个技术,就是将完美石墨烯扭结θ度,用来生产晶体管和逻辑门。

即便该技术解决了,可后边仍然有几十,上百,乃至上千的难关要攻克。

而且是缺一不可的那种。

任何一个环节出问题,碳基芯片都不可能生产成功,或者质能不佳。

自然。

在场众人都压力山大。

而其中压力最大的,面色最凝重的,当属计算机所的几位资深研究员。

一边扶着厚厚的眼镜片,一边擦了擦额头冷汗,眸光非常的深沉。

别问为什么?

问!

那就是他们需要做的……

是升级优化现有的EDA工具,以达到国际水准,其中难度非常非常大。

甚至可以这样说。

升级优化现有的EDA工具,是除开原材料,光刻机之外最难一环。

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