江秋晚就按照现有工艺，不加任何改良，按部就班的制作了一枚研究室能制作出来的芯片。

之后经过三年的研究，终于攻克了刻制芯片光线波长的难题。

利用已知理论，光线通过反射镜多次轰击金属锡液滴，从此减小光线波长的理论，在系统老师的教导和自己多次实验下，成功实现并加以改良。

国外的技术，轰击金属锡时，会产生大量的能量，使周围温度提高，为了使温度不过高，只能用大量的水流带走热量。

江秋晚在里面做了一个小的优化，在里面加了个发电装置，将产生的能量转变成电能，然后用于光刻机的运转，使其形成一个闭环。

再就是程序上的改良，让电子程序精准的控制光波的位置和路径，使光刻技术更加的精准。

如此一来，不仅减少了芯片制作的时间，还减少了芯片制作的失误率，大大提高了芯片的生产效率。

除此之外，还有一些其它的改良优化，例如芯片制作无尘车间中过滤空气设备中的过滤纸，芯片除尘设备的吹气管等。

众多改良下，造就了华国在2012年就能稳定大量的制作两纳米芯片。

虽然江秋晚为华国的芯片制作做了重大贡献，但她为了稳定的养老生活和安逸的游玩时光，并没有曝光自己。

学校理解并支持江秋晚的决定，和国家有关部门沟通，一起保护江秋晚，使其免于曝光在大众面前，同时也保护她的安全。

经过四年的努力，百神发布的光刻机和芯片任务全部完成。