相对而言，专利保护法更容易受到保护是消费产品的相关专利，侵犯了专利的友商产品除非不上市，一旦上市，其专利侵权的部分肯定会被发现。

这项技术非常简单，但是意义却是非凡了。仅以能耗为例，6英寸装料量60公斤的单晶炉为例平均能耗在120KH，而采用了最原始的固定式热屏技术，单晶炉的能耗就可以轻易的降低到90KH。而且，采用了热屏的单晶炉，还能显着提升单晶的生长速度，单晶的直径尺寸和良品率也大幅度的提升。

而后来固定式热屏技术的基础上，还出现了更先进的移动热屏，该技术直接把能耗进一步降低，原本能耗120KH的单晶炉，能耗可以进一步降低到了60KH！

后世的半导体行业爆产能，热屏技术也做出了突出的贡献。后世的电子产品的消费者，实际上，也是单晶炉热屏技术的受益者。

1986年7月，在孟欣率领下，单晶炉热屏技术就迅速从理论变成实际的产品。

这项成果本质上并不是太难，成本也不是很高。在成本大概5000多块钱的国产单晶炉里面，增加一个固定的组合件。大致上，仅需要不到1万元成本就可以将一台单晶炉改造成有固定热屏的新式单晶炉。

而目前进口的单晶炉，成本不低于1万美元一台，在比国产的单晶炉更贵的情况下，性能却远远不如这种新式带热屏的单晶炉。

这种一万美元一台的设备，实际上顶多用3~5次就报废，需要更换新的单晶炉。当然了，国外有寿命更长的单晶炉，能用十次左右，但却是禁止对天朝出口的。几十年后单晶炉寿命则是轻易的达到上百炉甚至更长久的寿命。当然了，配合热屏技术的话，晶圆生产的成本和效率，将达到80年代的半导体厂商难以想象的程度。

当然了，使用寿命更长的单晶炉，这则涉及到更复杂的材料学，并不是简单的弄出一份设计图纸就能搞出来。

刘森疑惑的问道：

“这个技术很厉害？”

刘森毕竟不是理工狗，所以只知道CPU、显卡、内存、硬盘、显示面板等等普通消费者看见的摸得着的东西。

还有就是最复杂的光刻机，由于芯片加工都需要光刻机，光刻机也是晶圆加工工业中，最昂贵的设备。集成电路能集成多少晶体管，主要取决于光刻机的精度。所以，即使是小白，都知道光刻机非常关键！

相对于高大上的光刻机而言，单晶炉就显得很土鳖，很少有外行人关注单晶炉技术的发展。

孟欣微笑着说道：

“当然厉害了！决定芯片性能和产能的，不仅仅是光刻机，晶圆的产能和质量，也是非常关键和重要的技术。

仅凭着这项技术，至少可以给你们的芯片节省30%的成本！品质更高的晶圆，也会让芯片加工的良品率更高、性能更好！其实短期内，光刻机的技术没取得突破，仅凭着单晶炉的技术突破，就足以让芯片产能、性能、成本等等指标，都获得大幅度的提升！”