“一微米光刻机已经研发成功，并定型量产，在座的诸位功不可没。但这一切都已经是过去式，接下来，咱们要在一微米光刻机的基础上，再接再厉，研发0.5微米制程的光刻机。我代表维创电子公司表个态，不管研发过程中遭遇怎样的困难，需要投入几亿，十几亿，甚至几十亿的研发资金，我们维创电子也在所不惜。接下来，有请姜教授就下一代光刻机研发计划，做一下总体规划。”

姜安平拿出一份手写的稿子，清了清嗓子说道：

“当初刘老板提供的光刻机研发资料中，有一份0.5微米光刻机研发概要，点明了几个研发要点，包括光源，透镜系统，双工台，掩模台等等。

其中双工台、掩膜台、控制系统、晶圆传输系统，可以通过一微米光刻机的相关部件进行升级改造达成，难度不是太大。

但为了达到0.5微米的加工精度，光源系统和透镜系统需要重新设计，重新打造，这个难度不是一般的大。”

乌光辉跟着发言道：

“我是搞激光技术出身，在光刻机光源方面有一定研究。光刻分辨率想要达到0.5微米，光源波长需要达到365nm以下，且对光源强度和均匀度都有非常严格的要求。咱们在一微米光刻机上使用的高压汞灯，理论上其极限能达0.35微米的加工精度，但需要对其结构进行彻底的改造，且越是接近极限，越难以达成。

而被业界普遍认定是下一代光刻机光源的KrF（氟化氪）准分子激光，光源波长为248nm，可以使最小工艺节点提升至350-180nm水平。当今世界上，很多激光相关的研究所，都在对准分子激光进行研发，进度参差不齐，达到实用水平的，一个都没有。

我的建议是，在光刻机光源方面，两种线路同时研发，哪个率先取得突破，下一代0.5微米光刻机上，就使用哪一种光源。”

一位光学方面的专家发言道：

“光源波长越短，传播过程中越容易被透镜吸收。下一代0.5微米光刻机，如果依旧使用高压汞灯当光源，使用现在的透镜组合就足够了，顶多加工精度再提高一些。如果使用准分子激光做光源，透镜系统就需要推倒重做，组合里至少增加两枚玻璃透镜，参数也要重新设计，还有镀膜材质也要重新开发。这方面研究需要尽快提上日程，如果开发新透镜组合，需要的计算量非常的大，使用普通计算机计算，需要的时间会非常长，我建议咱们使用ARM1芯片，组装一台超级计算机出来。”

一位深镇大学教计算机的教授，推了推眼镜出声道：

“超级计算机确实是个好东西，咱们很多研发中的项目涉及到大量数据计算和模拟测试，如果咱们实验室有一台超级计算机，可以把研发速度提高很多。

维创电子公司晶圆工厂出产的ARM1芯片，是世界上第一款精简指令集芯片，以10万晶体管数量，提供了远超芯片的性能，在功耗上，也只有后者的三分之一左右，是制作超级计算机的最优芯片。