叶回舟微笑着点点头，说道：“请您开机通电，我想看看这部机器是怎样运作的！”

“好，任工，把车间通电！”

跟在后面的任技术员，赶紧跑到隔壁的配电房，拉闸通电。

王厂长抚摸着这台冰冷的机器对着叶回舟说道：

“这台机器一次可装35片，在进行接近式曝光试验时，分离间隙在10-30微米，负性光刻胶的分辨率可达3-5微米，进行软接触式曝光分辨率为2.5微米……”。

叶回舟点头听着，他还是第1次见外国的光刻机。

就在前几年由rb通商产业省牵头，以Hitachi（日立）、Mitsubishi（三菱）、Fujitsu（富士通）、Toshiba（东芝）、NEC五大公司作为骨干，了。

联合通产省的电气技术实验室（EIL）、工业技术研究院电子综合研究所和计算机综合研究所，组建“VLSI技术联合研发体”。

投资720亿日元，其中政府出资320亿日元，攻坚超大规模集成电路的技术难关。

DC400是这个时期的产物，但。1978年，美丽国的GCA推出了革命性的曝光装备Mann4800DSW。

这是全球首台分步重复（Steppers）曝光装备，研发费用达500万美元。

该装备用波长436纳米的g线作为曝光光源，采用CarlZeiss的S-Planar10/0.28镜头，进行10:1的缩小比例曝光，可以对10毫米x10毫米的区域进行曝光，分辨率可达1微米。

售价为45万美元，立刻就把rb人生产的光刻机淘汰了两代，像DC400刚生产出来的时候，造价25万美元。

经过七八年的时间。

到了现在，美丽国的GCA真正使步进器成为主流光刻工具的是256KDRAM一代，占据了市场领导地位。

不过岛国在奋起直追。

此时，七八年前的初代光刻机，像什么dC400，PLA-500等等，都成了垃圾货，摆在仓库里还占地方。

所以，这批光刻机还有很多设备，王厂长是捡洋垃圾捡来的，卖20万他赚发了。

不过叶回舟不知道的事。

此时大陆的科学院109厂的研制开发的KA-7光刻机已经做出来了，不过还没批量生产。

机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美丽国4800DSW的水平。

兔子第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米G线光源。

按照这个时间节点算，大陆在分步光刻机上与国外的差距不超过五年，美丽国是1978年。

这些光刻机水平均不低，最保守估计跟现在最先进的国外的光刻机相比最多也就不到4年。

前年魔都的元件五厂和无线电厂甚至成功仿制英特尔公司8080CPU，比德国仿制成功还早一年。

此时大陆的半导体工业仅次于美丽国，领先于韩、台、日。

取消了包括运10、直8、远程轰炸机、大型导弹驱逐舰、长城/曙光大型计算机项目、数字焊接系统等一系列军用、民用高精尖技术项目下马，光刻机项目也在其中。

彼时wh无线电元件三厂在光刻机的科研上已经在光刻机项目上有了20多年的技术积累，是有可能实现从量变到质变的过程。

然而没有了国家经费的支持，一切都成了空谈。

大陆半导体在五十年代到七十年代创造的盛景成了泡沫。

光刻机是一种非常复杂的机械设备，由传感器、控制单元、激光器、光学系统、记录介质和机械构成。