“那也不对呀，按照你们的说法，郭一只是宣布明年要上3nm，现在这还没有任何行动呢，英特尔和台积电就这么发怵？这可能吗这！”

“这你还看不出来吗，他们就是这次拜仁的7nm工艺给吓着了。

你们等数据吧，这次拜仁的7nm工艺不说媲美台积电的5nm，但也差不了太远就是了。

你们是没看见，当时台积电的首席工程师的脸色，那简直就跟那啥俩一样。”

“真的假的，我咋那么不信呢，媲美5nm？”

“不管你信还是不信，事实都在眼前，要不然台积电和英特尔也不会像被踩到了尾巴的猫一样，反应这么大，这么跟你说吧，我当时就在现场。”

“卧槽，大佬给跪，说说说说，拜仁现在究竟是什么情况？”

“我也只是恰逢其会而已，研究生刚毕业，在拜仁实习，恰好赶上了。”

这位知情人也是接着说道：“之前郭先生还没来拜仁，仅仅只是看了工程师们以前的方案，就给出了改进生产工艺的方法，把拜仁的工艺提升到了14nm。

前一段，郭一先生来到拜仁之后是有打算直接升级光刻机的镜头等先关光学原件的，但是国内确实没有像样的光学企业，没法完成定制需求，不得已才放弃的。

最后只改造了控制系统。但，郭一先生肯定是有能力升级光刻机的整套硬件系统的。

具体等五天后你们就知道了，性能数据绝对会吓所有人一大跳的。

第一个被吓的，就是台积电和英特尔的特别专家。所以，他们才这么急切的啊！”

“这样一说我倒是能理解了，光刻机的三大难题：光源、镜头、控制系统，这也是困扰我们自主光刻机制造的三大核心。”

立即就有业内认知这样回复道：

“整套系统精密而复杂，控制系统的地位很关键也很重要。

环境的变化，机器运行过程中轻微的震动以及机器长久使用带来的部件的微弱变化都会对光刻精度产生影响，控制系统必须审慎入微的监测各种环境变化从而做出相应的微调整。

同样的193nm深紫外光源，也并不算太差的镜头，魔都微电子的光刻机之所以十几年被卡在90nm这一节点不得寸进，就是控制系统控制的精密度不够、控制系统对环境微弱变化感知及调整的能力不足造成的。

郭一对软件、对系统的研究确实深入，这个型号光刻机的控制系统经过改造，绝对已经达到了28nm甚至14nm的精度，在经过多种曝光套刻，7nm的成功也是必然的了。”

“大佬，大佬，分析的头头是道，但是我没看懂。”

“我也不懂，但不懂并不影响我热血沸腾啊！我激动的一个滑铲……”

“3nm啊，想想都激动！就是不知道郭大神会不会跟魔都微电子合作，如果那样的话，我们的EUV很快就会出来！”

“难啊！极紫外光刻机的两大核心部件，极紫外光源全球只有某国一家和捣国一家共两家公司能够提供，各种高精密反射镜等光学元器件更是只有一家卡尔蔡司能够提供，这些东西，我们都没有，也买不来。即便能解决控制系统，还有这两核心问题没法解决呢。”

“想那么多干什么，难不难的，那不是我等该操心的事儿，反正我相信郭大神，我只管等着，等着到时候尽情呐喊就好了！”

“就是，这世界上就没有郭大神解决不了的问题。”