第392章 378.有了林本间，我们的光刻机可以领先世界30年！（2.4合1）

隔日，张思明美滋滋地给赵德彬打越洋电话报喜：“彬子，你看，哥哥我对你那芯片的事多上心，专门去水木和燕大帮你招人，你感不感动？”

得知徐端颐外加整个团队即将加盟，赵德彬也很高兴：

“还真别说，我最近正愁到哪里去找那么多搞设备的技术人员。

我好不容易说服了林本间博士，他说必须要有人、有设备才能回来。

不然，他一个造光刻机的，回来了也发挥不了作用。

有了徐教授团队，我就有把握把林博士请回来了。”

“这位林博士究竟是何方神圣？昨天，我跟徐教授一提，看徐教授的样子，他对这位林博士可是久闻大名呀。”

“林博士可是个厉害的人物，有了他，咱们造出来的光刻机能在往后的三十年领先世界。”

“吓，这么厉害？你不是说光刻机是个特别复杂的东西吗，成千上万个零件，林博士总不能每个都懂吧？”

“林博士不用懂全部的零件，他就懂光刻技术，就能造出先进的光刻机。

光刻机这东西，说难也难，说简单吧，它也就是那么回事。

本质上，光刻机其实就是一台投影仪加照相机，在机器上，把设计好的电路图投射到硅片上，然后用光在硅片上把电路刻出来。

你就想，就是造一个精度高些的照相机，这能有多费劲？

我这两天正好就在买目前世界上最先进的光刻机，厂家是一个合兰的小厂，这家小厂是飞利甫的子公司，在84年成立的，当时整个公司算上扫地的也就31个人，老板还兼职保安和出纳，人家这都敢生产光刻机，你以为多难呢？

其实，也就是到了80年代末，光刻机才开始大量销售，之前很少人买这东西，像是因特尔、ICM、得州仪器这样的，人家要用光刻机，直接公司内部自己做了，根本就用不着买。

就这样的东西，他们还防贼一样防着中夏，不让中夏进口，真是敝帚自珍啊。”

张思明恍然大悟：“原来是这样，我说怎么现在世界光刻机巨头是霓康和嘉能呢。我一开还寻思着生产照相机的厂家跟芯片扯不上关系，原来是专业对口呀。”

“现在，世界上生产光刻机的厂家很多，霓康是里面最大的。

不过，霓康跟别人确实不一样。

别人都是靠采购回来一大堆零件后组装，霓康是所有零件都是自己生产。

虽说霓康的零件不一定都能做到世界第一，但现在的芯片要求也不是很高，霓康自己产的也就够用了。

再过十年可就不行了，现在芯片还是微米，等芯片制程到了纳米级，那时的光刻机就不是单个一家厂商能做出来的了，激光系统、工作台、物镜都要到世界其他顶尖公司采购。

到那个时候，世界上不会有任何一个国家能单独制造光刻机，就算丑国也不行。

每一台光刻机，都是全球工业链的整合。”

“我明白了，我终于知道为什么徐教授他们光靠自己单个团队就能做出来光刻机了，原来是因为现阶段的光刻机还不够复杂！”

“话也不能这么说，徐教授他们能从无到有做出光刻机来，已经很厉害了。

只能说，现阶段的光刻机，还是人力尚且可以企及的，靠埋头苦干就能能有所成就。

等到发展到一台光刻机好几十万个零件的时候，你就是让神仙过来，神仙都搞不定，必须世界范围内采购零件。

所以说，咱们的研究不能落下，一步差，步步差。

一旦落下了，再想追赶就难了。”

“原来是这样，怪不得你这么着急……不过，你还没告诉我林博士究竟哪里厉害呢？”

“哎呀，和你说技术你也不懂。”

“所以你就不要跟我说技术，就告诉我厉害在哪不就行了吗？咋，你现在不讲技术就不会说话了？”

赵德彬只好捡着张思明能听懂的，解释道：

“林博士从1970年就一直在ICM的华生实验室工作，目前已经21年了。

华生实验室是ICM最顶尖的实验室，出过很多着名科学家和诺贝奖获得者。

林博士除了在1975年做出了深紫外线（DUV）以外，还创造出了包括1微米、0.75微米、0.5微米在内的好几项光刻技术。

当然，最厉害的是他在1986年提出的关于浸润式微影技术的想法，目前世界上只有他的技术叫‘浸润式’，就是水泡着的那个‘浸润’，其他的技术全都是没有水的‘干式微影技术’。

我跟你说，浸润式才是以后的大势所趋，现在世界上才刚出第二代I线光刻机，暂时还看不出。

等发展到第三代DUV光刻机、还有第四代EUV光刻机的时候，全世界必须采用林博士的浸润式技术，除此以外，别的路都行不通。

所以我才说，有了林博士，我们能领先世界三十年。”

赵德彬的形容一点也不夸张，林本间是深紫外线DUV的发明人，而后世中夏想买也买不到的极紫外线EUV光刻机，也是基于林本间的‘浸润式光刻技术’研制出来的。

在赵德彬的世界当中，目前，光刻机光源波长在止步于193纳米上，再也没有办法下降，但摩尔定律要继续发展，193纳米这个瓶颈必须要打破。

这是因为，光刻机的光就像刻刀一样在硅片上雕刻电路，当你的芯片越来越小，你的刻刀也必须变小变薄，这就跟不能拿屠龙刀在米粒上雕花是一个道理。

不过，在1991年还不用太愁这个事，目前，实验室里的最先进的芯片制程是0.5微米，也就是500纳米，而193纳米光源波长的极限是在65纳米的制程以下，这中间少说还有十来年的时间可以想办法。

于是，整个90年代，搞光刻机的最顶尖那撮人，就为了这事犯愁，大家八仙过海、各显神通，捣鼓了好几年，总算是在90年代末期形成了两个路子：

霓康等巨头主张在193纳米的基础上，采用157纳米的F2激光；

而刚成立的EUV LLC联盟口气很大，一上来就要搞EUV技术，用仅有13.5纳米的极紫外光解决这个问题。

这两个方法都很难，但第二个方法基本上就是吹牛逼，对比之下，还是第一个方法靠谱，所以，大家都把希望寄托在157纳米的波长上面，很多公司都投入了重金搞研发，希望能早点做出157纳米的波长抢占市场。

虽然行业中已经达成了共识，但林本间却不这么想。

早在1986年，林本间在研究中发现，当前的微影技术已经进入了瓶颈，很难再向下发展，他提出了一个“浸润微影技术”，并在这个技术上研究了多年。